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随着科技进度，我国芯片制造行业飞速发展，行业技术日新月异，产品规模持续走高。芯片在制造工艺中使用各种酸液清洗、刻蚀芯片等过程中产生HF、HCl、硫酸雾等酸性气体。对于芯片厂企业在生产工艺过程中产生的腐蚀性气体（如酸、碱性废气）的治理，目前大多企业采用液体吸收法治理，采用液体吸收法治理该废气，酸性废气治理通常采用喷淋塔，通过酸碱中和反应来净化酸性气体。随着环保标准不断提高，单一喷淋塔已无法达到排放标准。
芯片厂酸碱废气处理工艺：
我司在分析比较及遵从有关标准规范，借鉴国内外类似酸雾处理经验的基础上，根据我司以往处理相类似酸雾的经验，增加湿式静电除雾器，其原理利用电磁场,当含零滴的气体通过该磁场时，在磁场力的作用下，所有的零滴 小液滴PM25等，均会移动到电磁接受极，并形成动态液膜回流至储水箱，供降温和脱磕使用，除此之外，仍然有大部分未结露的水分子以气态的形式排放到大气中，几平所有的小水雾 细微粉小颗粒物等均可消除。
经治理后，该酸雾能达到的酸雾浓度<30mg排放要求。同时能够将排放口与周围温差小于 15 摄氏度时，目测无白烟。排放口与周围温差大于15 摄氏度及阴雨天气压低时会有少量白雾(水蒸气) 现象产生属于自然现象。
